加工定制:是 | 规格:5 | 工作压力:4Mpa |
工作温度:5℃ | 进水浊度:25mg/L | 直径:54mm |
树脂层高度:5mm | 高度:7mm | 出水能力:54m3/h |
尺寸:52cm | 设计产水量:54t/h | 设备净重:54kg |
品牌:2 |
纯水设备离子交换混床:
离子交换混床为深度脱盐设备,用于制造高纯水,产水电阻率为10-18MΩ.CM(25℃),二氧化硅含量(SIO2)≤0.02mg/L,混床分为单、双床、抛光床、双床可一用一备,(不影响生产用水的连续性);可串联使用,以提高产水水质,有效利用树脂的交换容量;当生产用水量大时,可并联使用,运行相当灵活、方便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。环保型再生系统,高浓度酸碱通过射流器与进水按一定的比例配制成再生溶液进行再生,不需要酸碱泵及酸碱配制储罐,防止酸雾对环境的污染。
二、解决方案与设计优势:
1).配备有原水箱,防止因自来水压力不稳定对设备造成影响;
2).配备有水箱进水电磁阀,比常规的浮球进水阀性能稳定;
3).采用进海德能***压反渗透膜,脱盐***,运行稳定,能耗低;
4).配备专用浓水调节阀,操作方便;
5).反渗透设备与预处理理整体机架,结构紧凑,安装方便;
6).反渗透系统采用全自动方式控制,主要元件采用进口元件,稳定性高,操作简单方便;
7).混床系统设置罐体超压自动泄压装置,限度***罐体安全;
8).主题材料全部采用******品牌,保质保量,并按配置设计。
1、设备简介:
此设备采用反渗透水处理技术,与混床系统配套使用,利用反渗透原理,有效去除水中各种盐份及杂质;利用阳阴树脂吸附置换水中阳阴离子,使系统终端出水达到超纯水标准。系统采用全自运控制,具有工艺***、产水水质稳定、操作简便、运行费用低、维护方便等优点,广泛应用于工业清洗及相关行业。
2、应用场合:
(1)制药水质满足中国药典GMP标准
(2)电子行业广泛用于单晶硅半导体集成电路块,显象管制造系统
(3)化工原料配料用水
(4)电镀行业冲洗用纯水
(5)生物工程
(6)电路板芯片冲洗用纯水
3.系统设备功用:
1).原水箱,功用:贮存系统原水,对进水起调节作用,也对进水中的杂质起一定的沉淀作用;
2).砂滤器,功用:初步去除水中泥沙、杂质、悬浮物以及其它微粒等降低水的浊度;
3).碳滤器,功用:利用碳的吸附原理吸附水中异色、异味、余氯等;
4).保安过滤器,功用:防止大颗粒杂质进入反渗透膜,造成对膜的损坏,保护反渗透膜;
5).反渗透主机,功用:主要是通过反渗透过滤,达到生产纯水之目的;
6).纯水箱,功用:储存反渗透产水,为用水点提供水源;
7).纯水增压泵,功用:为混床系统提供动力源;
8).混床系统,功用:利用阳阴树脂吸附置换水中阳阴离子,使出水达到超纯水标准。
四、工艺流程:
原水箱――原水泵――机械过滤器――活性炭过滤器――保安过滤器――高压泵―― 反渗透――纯水箱。
五、技术参数:
型号 项目 | HCY-RO+MB-2T型 |
应用行业 | 手机镜片 |
设备控制方式 | 预处理:手动;反渗透:全自动控制;混床:手动 |
产水量 | 6000GPD(1T/H) |
进水水质指标 | 市政自来水,电导率≤500μs/cm |
产水水质指标 | 出水电阻率≥10MΩ·CM,(以在线仪表监测为准) |
自来水耗水量 | 12000GPD(2T/H) |
进水温度 | 15。C-35。C |
工作方式 | 可24小时连续工作 |
设备运行重量 | 3000公斤 |
设备运行功率 | 3.25KW |
电 源 | 380V AC 50Hz 三相四线 |
主机设备规格尺寸 | 长L6000*宽W1000*高H3000mm |
整套设备机房面积 | 长L7000*宽W2000*高H3500mm |
进水口径 | DN25 |
出水口径 | DN20 |
产品水出水压力 | 0.15MPa |